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电弧等离子体沉积系统
日本ADVANCE RIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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电弧等离子体沉积系统
日本Advance Riko 公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备
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BS-80020CPPS等离子体源
modification and cleaning. .本系列产品是专门为等离子源与低温过程,如塑料膜或基板。真空薄膜质量的沉积膜可以通过沉积以等离子体辅助改善,随着衬底温度的升高降低。该项目也可用
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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离子束刻蚀/沉积系统
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安捷伦 电感耦合等离子体质谱 7850 ICP-MSicp ms电感耦合等离子体质谱
周的方法开发和文档编制时间。超高基质进样系统 (UHMI) 可在不稀释的情况下直接分析总溶解态固体含量高达 25% 的样品,从而减少样品前处理时间。氦气碰撞池和半质量校正可消除棘手的多原子和双电荷
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